Please use this identifier to cite or link to this item: http://elib.psu.by:8080/handle/123456789/16412
Title: Модель процесса осаждения тонких пленок магнетронным распылением
Authors: Мельников, C. Н.
Кундас, С. П.
Keywords: ионно-плазменное напыление
распылительные системы
модели функционирования покрытий
Issue Date: Mar-2008
Publisher: Полоцкий государственный университет
Citation: Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. - 2008. - № 3. - C. 92-98
Series/Report no.: Серия C, Фундаментальные науки;2008. - № 3
Abstract: Предложена математическая модель, позволяющая рассчитывать формирование тонкопленочных покрытий при магнетронном распылении материалов и объединяющая математическое описание магнитных полей ионно-плазменных устройств, движения электронов и распыляемого вещества в электромагнитном поле, конденсации его на подложке. Модель применима для анализа и проектирования осесимметричных магнетронных распылительных систем. Магнитное поле магнетронной распылительной системы, его форма, распределение, магнитная индукция оказывают влияние на характеристики магнетронного разряда, на коэффициент распыления мишени. Если известно распределение магнитного поля магнетрона, то можно заранее определить его рабочие характеристики и, как результат, получить магнетронную распылительную систему с требуемыми параметрами и разрядными характеристиками.
URI: http://elib.psu.by:8080/handle/123456789/16412
ISSN: 2070-1624
Appears in Collections:2008, № 3

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Мельников, Кундас_2008-3.pdf446.47 kBAdobe PDFThumbnail
View/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.