Please use this identifier to cite or link to this item: http://elib.psu.by:8080/handle/123456789/16328
Title: Микротвердость пластин кремния, имплантированных высокоэнергетичными ионами бора
Authors: Вабищевич, С. А.
Вабищевич, Н. В.
Бринкевич, Д. И.
Просолович, В. С.
Янковский, Ю. Н.
Keywords: Энергетика
Полупроводниковые материалы и изделия
Issue Date: Mar-2015
Publisher: Полоцкий государственный университет
Citation: Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. - 2008. - № 3. - C. 110-113
Series/Report no.: Серия C, Фундаментальные науки;2008. - № 3
Abstract: Исследовано изменение микротвердости монокристаллического кремния при высокоэнергетичной имплантации ионов бора. Обнаружено упрочнение приповерхностного слоя (толщиной до 1 мкм) пластин, обусловленное формированием в указанном слое дефектов предположительно междоузельного типа. Эффект приповерхностного радиационного упрочнения существенно зависит от энергии и дозы имплантируемых ионов.
URI: http://elib.psu.by:8080/handle/123456789/16328
ISSN: 2070-1624
Appears in Collections:2008, № 3

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Вабищевич_2008-3.pdf329.69 kBAdobe PDFThumbnail
View/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.