<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<feed xmlns="http://www.w3.org/2005/Atom" xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/">
  <title>DSpace Community:</title>
  <link rel="alternate" href="https://elib.psu.by/handle/123456789/1333" />
  <subtitle />
  <id>https://elib.psu.by/handle/123456789/1333</id>
  <updated>2026-09-10T03:04:15Z</updated>
  <dc:date>2026-09-10T03:04:15Z</dc:date>
  <entry>
    <title>Стабилизирующая обработка пленок негативных фоторезистов серии AZ nLOF20XX на кремнии</title>
    <link rel="alternate" href="https://elib.psu.by/handle/123456789/50532" />
    <author>
      <name>Просолович, В. С.</name>
    </author>
    <author>
      <name>Бринкевич, Д. И.</name>
    </author>
    <author>
      <name>Гринюк, Е. В.</name>
    </author>
    <author>
      <name>Янковский Ю. Н.</name>
    </author>
    <author>
      <name>Зубова О. А.</name>
    </author>
    <author>
      <name>Бринкевич С. Д.</name>
    </author>
    <author>
      <name>Вабищевич С. А.</name>
    </author>
    <id>https://elib.psu.by/handle/123456789/50532</id>
    <updated>2026-08-26T06:15:51Z</updated>
    <published>2025-01-01T00:00:00Z</published>
    <summary type="text">Title: Стабилизирующая обработка пленок негативных фоторезистов серии AZ nLOF20XX на кремнии
Authors: Просолович, В. С.; Бринкевич, Д. И.; Гринюк, Е. В.; Янковский Ю. Н.; Зубова О. А.; Бринкевич С. Д.; Вабищевич С. А.
Abstract: Методами ИК-Фурье-спектроскопии и микроиндентирования исследованы пленки негативных фоторезистов (ФР) AZ nLOF2020 и AZ nLOF2070 толщиной ~ 6.0 мкм, нанесенные на поверхность пластин монокристаллического кремния методом центрифугирования. Показано, что после облучения светом с λ = 404 нм в течение 106 с и последующей сушки при 115 °С длительностью 60 с в отражательно-абсорбционных спектрах фоторезистивных пленок наблюдается смещение в высокоэнергетическую область максимумов интерференционных полос. Оно вызвано уменьшением толщины ФР пленки, обусловленным испарением растворителя в процессе сушки. Эти процессы протекают более интенсивно в пленках AZ nLOF2020, в которых смещение интерференционных полос составляло ~ 9%, в то время как в пленках AZ nLOF2070 оно не достигало 1%. Показано, что полосы поглощения с максимумами при 1070 и 1100 см–1, связанные с асимметричными и симметричными валентными колебаниями С-О-С связей в алифатических эфирах, и при 2940 см–1, обусловленные асимметричными валентными колебаниями СН3 связей, связаны с растворителем. Установлено, что микротвердость пленок серии AZ nLOF20XX увеличивается после стабилизирующей сушки, что вызвано сшиванием молекул фенол-формальдегидной смолы – основы фоторезиста. Полученные экспериментальные данные объяснены с учетом упорядочения структуры фоторезистивной пленки вблизи границы раздела ФР/кремний вследствие ориентации молекул и наличия в пленках AZ nLOF2020 большей концентрации остаточного растворителя.</summary>
    <dc:date>2025-01-01T00:00:00Z</dc:date>
  </entry>
  <entry>
    <title>Инклюзивность - приоритетное социальное направление Esg-повестки</title>
    <link rel="alternate" href="https://elib.psu.by/handle/123456789/50531" />
    <author>
      <name>Редькина, Т. М.</name>
    </author>
    <author>
      <name>Зенькова, И. В.</name>
    </author>
    <author>
      <name>Назаров, П. В.</name>
    </author>
    <id>https://elib.psu.by/handle/123456789/50531</id>
    <updated>2026-08-25T12:37:59Z</updated>
    <published>2025-01-01T00:00:00Z</published>
    <summary type="text">Title: Инклюзивность - приоритетное социальное направление Esg-повестки
Authors: Редькина, Т. М.; Зенькова, И. В.; Назаров, П. В.</summary>
    <dc:date>2025-01-01T00:00:00Z</dc:date>
  </entry>
  <entry>
    <title>Вовлечение бизнеса в реализацию прогрессивных инклюзивных практик</title>
    <link rel="alternate" href="https://elib.psu.by/handle/123456789/50530" />
    <author>
      <name>Редькина, Т. М.</name>
    </author>
    <author>
      <name>Измайлович, С. В.</name>
    </author>
    <author>
      <name>Круглова, И. А.</name>
    </author>
    <id>https://elib.psu.by/handle/123456789/50530</id>
    <updated>2026-08-25T12:35:17Z</updated>
    <published>2025-01-01T00:00:00Z</published>
    <summary type="text">Title: Вовлечение бизнеса в реализацию прогрессивных инклюзивных практик
Authors: Редькина, Т. М.; Измайлович, С. В.; Круглова, И. А.</summary>
    <dc:date>2025-01-01T00:00:00Z</dc:date>
  </entry>
  <entry>
    <title>Правовые основы свободного использования объектов авторского права (сравнительно-правовое исследование)</title>
    <link rel="alternate" href="https://elib.psu.by/handle/123456789/50529" />
    <author>
      <name>Богоненко, В. А.</name>
    </author>
    <id>https://elib.psu.by/handle/123456789/50529</id>
    <updated>2026-08-25T12:33:43Z</updated>
    <published>2025-01-01T00:00:00Z</published>
    <summary type="text">Title: Правовые основы свободного использования объектов авторского права (сравнительно-правовое исследование)
Authors: Богоненко, В. А.</summary>
    <dc:date>2025-01-01T00:00:00Z</dc:date>
  </entry>
</feed>

