<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<feed xmlns="http://www.w3.org/2005/Atom" xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/">
  <title>DSpace Collection:</title>
  <link rel="alternate" href="https://elib.psu.by/handle/123456789/300" />
  <subtitle />
  <id>https://elib.psu.by/handle/123456789/300</id>
  <updated>2026-04-11T02:21:29Z</updated>
  <dc:date>2026-04-11T02:21:29Z</dc:date>
  <entry>
    <title>Многоуровневый системный физико-химический, мультифрактальный и вейвлет-анализ изображений структур наноматериалов и их свойств</title>
    <link rel="alternate" href="https://elib.psu.by/handle/123456789/441" />
    <author>
      <name>Витязь, П. А.</name>
    </author>
    <author>
      <name>Хейфец, М. Л.</name>
    </author>
    <author>
      <name>Сенють, В. Т.</name>
    </author>
    <author>
      <name>Колмаков, А. Г.</name>
    </author>
    <author>
      <name>Антипов, В. И.</name>
    </author>
    <author>
      <name>Виноградов, Л. В.</name>
    </author>
    <id>https://elib.psu.by/handle/123456789/441</id>
    <updated>2023-06-15T13:05:46Z</updated>
    <published>2011-01-01T00:00:00Z</published>
    <summary type="text">Title: Многоуровневый системный физико-химический, мультифрактальный и вейвлет-анализ изображений структур наноматериалов и их свойств
Authors: Витязь, П. А.; Хейфец, М. Л.; Сенють, В. Т.; Колмаков, А. Г.; Антипов, В. И.; Виноградов, Л. В.
Abstract: Исследование состояний физико-химической системы по элементам диаграмм состояний согласно предложенной топологической модели позволило выявить принципы самоорганизации при образовании структур и фаз. Изучены элементы топологической модели на основе выделения стадий формирования недиссоциированного соединения из диссоциированного с образованием сингулярной точки на диаграмме состояний. Показана со структурно-энергетических позиций целесообразная последовательность этапов развития поверхностей раздела структур, фаз и слоев: рост фрактальных структур поверхности; увеличение числа элементов основы фрактала; усложнение фрактальных меандров; перколяция слоев на поверхности раздела; вырождение фракталов. Рекомендован мультифрактальный подход к количественному описанию структур различной природы, заключающийся в построении меры множества, аппроксимирующего изучаемую структуру. Предложено использовать вейвлет-анализ для описания наноструктур материалов. Определены свойства и параметры вейвлет-анализа, влияющие на описание материалов.
Description: Multilevel System Physicochemical, Multifractal and Wavelet Analysis of the Nanostructures and Their Properties Images / P. Vitiaz, M. Kheifetz, V. Senut, A. Kolmakov, V. Antipov, L. Vinogradov</summary>
    <dc:date>2011-01-01T00:00:00Z</dc:date>
  </entry>
  <entry>
    <title>Анализ параметрической устойчивости цилиндрических осесимметричных анизотропных оболочек из стеклопластика с учетом затухания</title>
    <link rel="alternate" href="https://elib.psu.by/handle/123456789/438" />
    <author>
      <name>Ван Чживэй</name>
    </author>
    <author>
      <name>Босяков, С. М.</name>
    </author>
    <id>https://elib.psu.by/handle/123456789/438</id>
    <updated>2023-06-15T13:05:46Z</updated>
    <published>2011-01-01T00:00:00Z</published>
    <summary type="text">Title: Анализ параметрической устойчивости цилиндрических осесимметричных анизотропных оболочек из стеклопластика с учетом затухания
Authors: Ван Чживэй; Босяков, С. М.
Abstract: Представлены результаты исследования параметрических колебаний цилиндрической конструктивно анизотропной оболочки из стеклопластика, подверженной действию продольной пульсирующей силы, при граничных условиях Навье. Стеклопластик рассматривается как однородный монолитный анизотропный материал, упругие свойства которого зависят от угла намотки стекловолокна. Силы неупругого сопротивления учитываются посредством введения в дифференциальные уравнения движения дополнительных членов, содержащих первые производные по времени от продольного, окружного и радиального перемещений срединной поверхности оболочки. Логарифмические декременты также зависят от угла ориентации стеклонити. Получено уравнение Матье, учитывающее затухание, и с применением метода малого параметра найдены выражения, описывающие критические частоты, ограничивающие первую и вторую области неустойчивости. На примере оболочки из тканевого стеклопластика показано, что учет затухания приводит к уменьшению первой области неустойчивости.
Description: The Analysis of Parametrical Stability of Cylindrical Axisymmetric Anisotropic Shells From Fibreglass Taking Into Account Damping / Wang Zhiwei, S. Bosiakov</summary>
    <dc:date>2011-01-01T00:00:00Z</dc:date>
  </entry>
  <entry>
    <title>Микроиндентирование структур фотополимер - кремний</title>
    <link rel="alternate" href="https://elib.psu.by/handle/123456789/437" />
    <author>
      <name>Вабищевич, Н. В.</name>
    </author>
    <author>
      <name>Вабищевич, С. А.</name>
    </author>
    <author>
      <name>Бринкевич, Д. И.</name>
    </author>
    <author>
      <name>Волобуев, В. С.</name>
    </author>
    <author>
      <name>Лукашевич, М. Г.</name>
    </author>
    <author>
      <name>Оджаев, В. Б.</name>
    </author>
    <author>
      <name>Просолович, В. С.</name>
    </author>
    <id>https://elib.psu.by/handle/123456789/437</id>
    <updated>2023-06-15T13:05:46Z</updated>
    <published>2011-01-01T00:00:00Z</published>
    <summary type="text">Title: Микроиндентирование структур фотополимер - кремний
Authors: Вабищевич, Н. В.; Вабищевич, С. А.; Бринкевич, Д. И.; Волобуев, В. С.; Лукашевич, М. Г.; Оджаев, В. Б.; Просолович, В. С.
Abstract: Представлено исследование методом микроиндентирования физико-механических свойств структур фотополимер – кремний, имплантированных ионами Sb+ с энергией 60 кэВ в интервале флюенсов 11015…51016 cм–2. Обнаружено, что процессы радиационного дефектообразования при низкоэнергетичной ионной имплантации Sb+ структур фотополимер – кремний протекают далеко за областью проецированного пробега ионов Sb+. Эффект радиационного упрочнения полимера наблюдался по всей толщине пленки, причем за слоем внедрения ионов указанный эффект выражен сильнее, что, вероятнее всего, обусловлено процессами радиационного сшивания. Показано, что ионная имплантация приводит к ухудшению адгезионного взаимодействия фотополимерной пленки с кремнием.
Description: Microindention of Photopolymeric-Silicon Structures / N. Vabishchevich, S. Vabishchevich, D. Brinkevich, V. Volobuyev, M. Lukashevich, V. Odzhaev, V. Prosolovich</summary>
    <dc:date>2011-01-01T00:00:00Z</dc:date>
  </entry>
  <entry>
    <title>Моделирование физико-технологических процессов формирования микро- и наноструктур ускоренными потоками ионов инертных и реактивных газов</title>
    <link rel="alternate" href="https://elib.psu.by/handle/123456789/434" />
    <author>
      <name>Спресов, И. Н.</name>
    </author>
    <id>https://elib.psu.by/handle/123456789/434</id>
    <updated>2023-06-15T13:05:46Z</updated>
    <published>2011-01-01T00:00:00Z</published>
    <summary type="text">Title: Моделирование физико-технологических процессов формирования микро- и наноструктур ускоренными потоками ионов инертных и реактивных газов
Authors: Спресов, И. Н.
Abstract: Рассматриваются физико-технологические процессы формирования микро- и наноструктур ускоренными потоками ионов инертных и реактивных газов. Предложена модель процесса нанесения тонких пленок на подложках с микронным рельефом. Обоснована эффективность применения ионных потоков при формировании тонких пленок, а также в различных областях современной науки и техники. На основании математической модели исследованы различные формы подложки относительно ионного потока. При увеличении расстояния между подложкой и источником толщина пленки уменьшается. Скорость напыления максимальна при минимальном угле наклона между подложкой и источником. При увеличении времени напыления толщина пленки возрастает пропорционально времени, а при увеличении угла наклона подложки к горизонтальной плоскости толщина пленки уменьшается.
Description: Simulation of Physical Processes Formation of Micro-And Nanostructures Expedite the Flow of Ions of Inert and Reactive Gases / I. Spresov</summary>
    <dc:date>2011-01-01T00:00:00Z</dc:date>
  </entry>
</feed>

