https://elib.psu.by/handle/123456789/45948 2026-05-01T08:06:38Z 2026-05-01T08:06:38Z Бринкевич, Д. И. Просолович, В. С. Колос, В. В. Зубова, О. А. Вабищевич, С. А. Brinkevich, D. Prosolovich, V. Kolos, V. Zubova, O. Vabishchevich, S. https://elib.psu.by/handle/123456789/45954 2024-11-21T06:41:49Z 2024-01-01T00:00:00Z

Title: Инфракрасная Фурье-спектроскопия диффузного отражения пленок негативных фоторезистов серии AZ nLOF на монокристаллическом кремнии Authors: Бринкевич, Д. И.; Просолович, В. С.; Колос, В. В.; Зубова, О. А.; Вабищевич, С. А.; Brinkevich, D.; Prosolovich, V.; Kolos, V.; Zubova, O.; Vabishchevich, S. Abstract: Методом ИК-Фурье-спектроскопии диффузного отражения исследованы пленки негативных фоторезистов (ФР) AZ nLOF 2020, AZ nLOF 2070 и AZ nLOF 5510 толщиной 0,95 – 6,1 мкм, нанесенные на поверхность пластин кремния методом центрифугирования. В спектрах диффузного отражения структур фоторезист/Si полосы поглощения наблюдались на фоне интерференционных полос, что позволяет использовать методику для измерения толщины пленки или ее показателя преломления. Наиболее интенсивными в спектрах ФР серии AZ nLOF являются полосы валентных колебаний ароматического кольца, пульсационных колебаний углеродного скелета ароматического кольца, широкая структурированная полоса с несколькими максимумами в диапазоне 1050 – 1270 см–1 и полоса, связанная с СН2-мостиком. Структура спектра поглощения фоторезистов серии AZ nLOF схожа со структурой спектра фенолформальдегидного фоторезиста ФП9120. Показано, что полоса колебаний CH3-групп при 2945 см–1 обусловлена растворителем.

2024-01-01T00:00:00Z Лупенко, Н. Л. Богуш, Р. П. Чен, X. Lupenko, N. Bohush, R. Chen, H. https://elib.psu.by/handle/123456789/45953 2024-11-21T06:35:28Z 2024-01-01T00:00:00Z

Title: Анализ методов определения абсолютного расстояния до объекта по изображению с одной видеокамеры с использованием нейронных сетей Authors: Лупенко, Н. Л.; Богуш, Р. П.; Чен, X.; Lupenko, N.; Bohush, R.; Chen, H. Abstract: Рассмотрен ряд подходов для определения расстояния до объекта по изображению, сформированному монокулярной видеокамерой, которые применяют искусственные нейронные сети на различных этапах обработки. Проанализирован метод, основанный на нахождении карты глубины и обнаружении объекта с последующим проецированием его координат на карту глубины. Описан метод, использующий взаимосвязь реального размера определенного класса объекта и его размера на сформированном изображении. Рассмотрен подход, основанный на модификации нейронной сети YOLO, при котором в результирующий дескриптор включается дополнительный вектор, характеризующий расстояние до объекта, а также изменяется функция потерь. Описаны состав и особенности наборов данных, которые используются для обучения нейронных сетей, применяемых в алгоритмах вычисления абсолютного расстояния до объекта по изображению. Представлены результаты оценки эффективности различных подходов, описаны их преимущества и недостатки, а также перспективы применения при решении практических задач.

2024-01-01T00:00:00Z Вабищевич, С. А. Вабищевич, Н. В. Бринкевич, Д. И. Просолович, В. С. Vabishchevich, S. Vabishchevich, N. Brinkevich, D. Prosolovich, V. https://elib.psu.by/handle/123456789/45955 2024-11-21T06:40:18Z 2024-01-01T00:00:00Z

Title: Прочностные свойства имплантированных ионами сурьмы пленок диазохинон-новолачного фоторезиста ФП9120 на монокристаллическом кремнии Authors: Вабищевич, С. А.; Вабищевич, Н. В.; Бринкевич, Д. И.; Просолович, В. С.; Vabishchevich, S.; Vabishchevich, N.; Brinkevich, D.; Prosolovich, V. Abstract: Методом индентирования исследована модификация в процессе длительного хранения прочностных свойств имплантированных ионами Sb+ пленок диазохинон-новолачного фоторезиста ФП9120 на монокристаллическом кремнии. Зависимости микротвердости от нагрузки после имплантации были немонотонными, что обусловлено наличием у границы раздела фоторезист/кремний упругих напряжений. При длительном хранении наблюдалась их релаксация, обусловившая исчезновение немонотонности на зависимостях микротвердости от нагрузки. Обнаружено сшивание молекул фенолформальдегидной смолы при длительном хранении. Этот процесс был стимулирован разложением в процессе ионной имплантации диазохинона. После длительного хранения имплантированная фоторезистивная пленка становится менее подверженной упругопластическому восстановлению после снятия нагрузки.

2024-01-01T00:00:00Z Ким, Т. Ю. Печковский, Е. И. Печковская, А. В. Kim, T. Pechkouski, Yau. Pechkouskaya, A. https://elib.psu.by/handle/123456789/45952 2024-11-21T06:35:28Z 2024-01-01T00:00:00Z

Title: Разработка целевой функции генетического алгоритма для оптимизации массы деталей редуктора при FDM-печати Authors: Ким, Т. Ю.; Печковский, Е. И.; Печковская, А. В.; Kim, T.; Pechkouski, Yau.; Pechkouskaya, A. Abstract: В настоящее время трехмерная печать стала важным инструментом прототипирования, ускоряющим внедрение новых технических решений. Данная работа посвящена оптимизации массы деталей, изготавливаемых из пластика с помощью FDM-печати. Задача заключается в подборе параметров деталей таким образом, чтобы оптимизировать массу комплектующих и, соответственно, расход пластика в процессе печати. Для этой цели используются генетические алгоритмы (ГА) и компьютерное моделирование. Авторами разработана целевая функция, минимизирующая массу компонентов редуктора, и приведены окончательные оптимальные решения проверочных расчетов передачи на контактную прочность, выносливость при изгибе и прочность вала, а также на статическую прочность и контактную прочность рассчитанные с помощью ГА. Метод, предложенный в статье, иллюстрируется на примере оптимизации массы зубчатых колес для цилиндрической зубчатой передачи.

2024-01-01T00:00:00Z