<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<rdf:RDF xmlns:rdf="http://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#" xmlns="http://purl.org/rss/1.0/" xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/">
  <channel rdf:about="https://elib.psu.by/handle/123456789/1333">
    <title>DSpace Community:</title>
    <link>https://elib.psu.by/handle/123456789/1333</link>
    <description />
    <items>
      <rdf:Seq>
        <rdf:li rdf:resource="https://elib.psu.by/handle/123456789/50532" />
        <rdf:li rdf:resource="https://elib.psu.by/handle/123456789/50531" />
        <rdf:li rdf:resource="https://elib.psu.by/handle/123456789/50530" />
        <rdf:li rdf:resource="https://elib.psu.by/handle/123456789/50529" />
      </rdf:Seq>
    </items>
    <dc:date>2026-09-10T03:04:20Z</dc:date>
  </channel>
  <item rdf:about="https://elib.psu.by/handle/123456789/50532">
    <title>Стабилизирующая обработка пленок негативных фоторезистов серии AZ nLOF20XX на кремнии</title>
    <link>https://elib.psu.by/handle/123456789/50532</link>
    <description>Title: Стабилизирующая обработка пленок негативных фоторезистов серии AZ nLOF20XX на кремнии
Authors: Просолович, В. С.; Бринкевич, Д. И.; Гринюк, Е. В.; Янковский Ю. Н.; Зубова О. А.; Бринкевич С. Д.; Вабищевич С. А.
Abstract: Методами ИК-Фурье-спектроскопии и микроиндентирования исследованы пленки негативных фоторезистов (ФР) AZ nLOF2020 и AZ nLOF2070 толщиной ~ 6.0 мкм, нанесенные на поверхность пластин монокристаллического кремния методом центрифугирования. Показано, что после облучения светом с λ = 404 нм в течение 106 с и последующей сушки при 115 °С длительностью 60 с в отражательно-абсорбционных спектрах фоторезистивных пленок наблюдается смещение в высокоэнергетическую область максимумов интерференционных полос. Оно вызвано уменьшением толщины ФР пленки, обусловленным испарением растворителя в процессе сушки. Эти процессы протекают более интенсивно в пленках AZ nLOF2020, в которых смещение интерференционных полос составляло ~ 9%, в то время как в пленках AZ nLOF2070 оно не достигало 1%. Показано, что полосы поглощения с максимумами при 1070 и 1100 см–1, связанные с асимметричными и симметричными валентными колебаниями С-О-С связей в алифатических эфирах, и при 2940 см–1, обусловленные асимметричными валентными колебаниями СН3 связей, связаны с растворителем. Установлено, что микротвердость пленок серии AZ nLOF20XX увеличивается после стабилизирующей сушки, что вызвано сшиванием молекул фенол-формальдегидной смолы – основы фоторезиста. Полученные экспериментальные данные объяснены с учетом упорядочения структуры фоторезистивной пленки вблизи границы раздела ФР/кремний вследствие ориентации молекул и наличия в пленках AZ nLOF2020 большей концентрации остаточного растворителя.</description>
    <dc:date>2025-01-01T00:00:00Z</dc:date>
  </item>
  <item rdf:about="https://elib.psu.by/handle/123456789/50531">
    <title>Инклюзивность - приоритетное социальное направление Esg-повестки</title>
    <link>https://elib.psu.by/handle/123456789/50531</link>
    <description>Title: Инклюзивность - приоритетное социальное направление Esg-повестки
Authors: Редькина, Т. М.; Зенькова, И. В.; Назаров, П. В.</description>
    <dc:date>2025-01-01T00:00:00Z</dc:date>
  </item>
  <item rdf:about="https://elib.psu.by/handle/123456789/50530">
    <title>Вовлечение бизнеса в реализацию прогрессивных инклюзивных практик</title>
    <link>https://elib.psu.by/handle/123456789/50530</link>
    <description>Title: Вовлечение бизнеса в реализацию прогрессивных инклюзивных практик
Authors: Редькина, Т. М.; Измайлович, С. В.; Круглова, И. А.</description>
    <dc:date>2025-01-01T00:00:00Z</dc:date>
  </item>
  <item rdf:about="https://elib.psu.by/handle/123456789/50529">
    <title>Правовые основы свободного использования объектов авторского права (сравнительно-правовое исследование)</title>
    <link>https://elib.psu.by/handle/123456789/50529</link>
    <description>Title: Правовые основы свободного использования объектов авторского права (сравнительно-правовое исследование)
Authors: Богоненко, В. А.</description>
    <dc:date>2025-01-01T00:00:00Z</dc:date>
  </item>
</rdf:RDF>

