<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<rdf:RDF xmlns:rdf="http://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#" xmlns="http://purl.org/rss/1.0/" xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/">
  <channel rdf:about="https://elib.psu.by/handle/123456789/45948">
    <title>DSpace Collection:</title>
    <link>https://elib.psu.by/handle/123456789/45948</link>
    <description />
    <items>
      <rdf:Seq>
        <rdf:li rdf:resource="https://elib.psu.by/handle/123456789/45954" />
        <rdf:li rdf:resource="https://elib.psu.by/handle/123456789/45953" />
        <rdf:li rdf:resource="https://elib.psu.by/handle/123456789/45955" />
        <rdf:li rdf:resource="https://elib.psu.by/handle/123456789/45952" />
      </rdf:Seq>
    </items>
    <dc:date>2026-04-29T03:26:26Z</dc:date>
  </channel>
  <item rdf:about="https://elib.psu.by/handle/123456789/45954">
    <title>Инфракрасная Фурье-спектроскопия диффузного отражения пленок негативных фоторезистов серии AZ nLOF на монокристаллическом кремнии</title>
    <link>https://elib.psu.by/handle/123456789/45954</link>
    <description>Title: Инфракрасная Фурье-спектроскопия диффузного отражения пленок негативных фоторезистов серии AZ nLOF на монокристаллическом кремнии
Authors: Бринкевич, Д. И.; Просолович, В. С.; Колос, В. В.; Зубова, О. А.; Вабищевич, С. А.; Brinkevich, D.; Prosolovich, V.; Kolos, V.; Zubova, O.; Vabishchevich, S.
Abstract: Методом ИК-Фурье-спектроскопии диффузного отражения исследованы пленки негативных фоторезистов (ФР) AZ nLOF 2020, AZ nLOF 2070 и AZ nLOF 5510 толщиной 0,95 – 6,1 мкм, нанесенные на поверхность пластин кремния методом центрифугирования. В спектрах диффузного отражения структур фоторезист/Si полосы поглощения наблюдались на фоне интерференционных полос, что позволяет использовать методику для измерения толщины пленки или ее показателя преломления. Наиболее интенсивными в спектрах ФР серии AZ nLOF являются полосы валентных колебаний ароматического кольца, пульсационных колебаний углеродного скелета ароматического кольца, широкая структурированная полоса с несколькими максимумами в диапазоне 1050 – 1270 см–1 и полоса, связанная с СН2-мостиком. Структура спектра поглощения фоторезистов серии AZ nLOF схожа со структурой спектра фенолформальдегидного фоторезиста ФП9120. Показано, что полоса колебаний CH3-групп при 2945 см–1 обусловлена растворителем.</description>
    <dc:date>2024-01-01T00:00:00Z</dc:date>
  </item>
  <item rdf:about="https://elib.psu.by/handle/123456789/45953">
    <title>Анализ методов определения абсолютного расстояния до объекта по изображению с одной видеокамеры с использованием нейронных сетей</title>
    <link>https://elib.psu.by/handle/123456789/45953</link>
    <description>Title: Анализ методов определения абсолютного расстояния до объекта по изображению с одной видеокамеры с использованием нейронных сетей
Authors: Лупенко, Н. Л.; Богуш, Р. П.; Чен, X.; Lupenko, N.; Bohush, R.; Chen, H.
Abstract: Рассмотрен ряд подходов для определения расстояния до объекта по изображению, сформированному монокулярной видеокамерой, которые применяют искусственные нейронные сети на различных этапах обработки. Проанализирован метод, основанный на нахождении карты глубины и обнаружении объекта с последующим проецированием его координат на карту глубины. Описан метод, использующий взаимосвязь реального размера определенного класса объекта и его размера на сформированном изображении. Рассмотрен подход, основанный на модификации нейронной сети YOLO, при котором в результирующий дескриптор включается дополнительный вектор, характеризующий расстояние до объекта, а также изменяется функция потерь. Описаны состав и особенности наборов данных, которые используются для обучения нейронных сетей, применяемых в алгоритмах вычисления абсолютного расстояния до объекта по изображению. Представлены результаты оценки эффективности различных подходов, описаны их преимущества и недостатки, а также перспективы применения при решении практических задач.</description>
    <dc:date>2024-01-01T00:00:00Z</dc:date>
  </item>
  <item rdf:about="https://elib.psu.by/handle/123456789/45955">
    <title>Прочностные свойства имплантированных ионами сурьмы пленок диазохинон-новолачного фоторезиста ФП9120 на монокристаллическом кремнии</title>
    <link>https://elib.psu.by/handle/123456789/45955</link>
    <description>Title: Прочностные свойства имплантированных ионами сурьмы пленок диазохинон-новолачного фоторезиста ФП9120 на монокристаллическом кремнии
Authors: Вабищевич, С. А.; Вабищевич, Н. В.; Бринкевич, Д. И.; Просолович, В. С.; Vabishchevich, S.; Vabishchevich, N.; Brinkevich, D.; Prosolovich, V.
Abstract: Методом индентирования исследована модификация в процессе длительного хранения прочностных свойств имплантированных ионами Sb+ пленок диазохинон-новолачного фоторезиста ФП9120 на монокристаллическом кремнии. Зависимости микротвердости от нагрузки после имплантации были немонотонными, что обусловлено наличием у границы раздела фоторезист/кремний упругих напряжений. При длительном хранении наблюдалась их релаксация, обусловившая исчезновение немонотонности на зависимостях микротвердости от нагрузки. Обнаружено сшивание молекул фенолформальдегидной смолы при длительном хранении. Этот процесс был стимулирован разложением в процессе ионной имплантации диазохинона. После длительного хранения имплантированная фоторезистивная пленка становится менее подверженной упругопластическому восстановлению после снятия нагрузки.</description>
    <dc:date>2024-01-01T00:00:00Z</dc:date>
  </item>
  <item rdf:about="https://elib.psu.by/handle/123456789/45952">
    <title>Разработка целевой функции генетического алгоритма для оптимизации массы деталей редуктора при FDM-печати</title>
    <link>https://elib.psu.by/handle/123456789/45952</link>
    <description>Title: Разработка целевой функции генетического алгоритма для оптимизации массы деталей редуктора при FDM-печати
Authors: Ким, Т. Ю.; Печковский, Е. И.; Печковская, А. В.; Kim, T.; Pechkouski, Yau.; Pechkouskaya, A.
Abstract: В настоящее время трехмерная печать стала важным инструментом прототипирования, ускоряющим внедрение новых технических решений. Данная работа посвящена оптимизации массы деталей, изготавливаемых из пластика с помощью FDM-печати. Задача заключается в подборе параметров деталей таким образом, чтобы оптимизировать массу комплектующих и, соответственно, расход пластика в процессе печати. Для этой цели используются генетические алгоритмы (ГА) и компьютерное моделирование. Авторами разработана целевая функция, минимизирующая массу компонентов редуктора, и приведены окончательные оптимальные решения проверочных расчетов передачи на контактную прочность, выносливость при изгибе и прочность вала, а также на статическую прочность и контактную прочность рассчитанные с помощью ГА. Метод, предложенный в статье, иллюстрируется на примере оптимизации массы зубчатых колес для цилиндрической зубчатой передачи.</description>
    <dc:date>2024-01-01T00:00:00Z</dc:date>
  </item>
</rdf:RDF>

