https://elib.psu.by/handle/123456789/472 2026-04-21T14:34:28Z https://elib.psu.by/handle/123456789/521 Title: Распределение тепловой мощности в образцах пиломатериала при нагреве энергией СВЧ-поля частотой 2,45 ГГц Authors: Адамович, А. Л.; Грозберг, Ю. Г.; Бульбенкова, Т. А. Abstract: Рассмотрена электродинамическая задача прямого и углового падения СВЧ-поля частотой 2,45 ГГц от волноводно-щелевой антенны на полубесконечную пластину с диэлектрическими характеристиками, соответствующими древесине при перпендикулярной ориентации вектора напряженности падающего поля относительно волокон. Рассмотрена задача облучения энергией СВЧ-поля пластины конечной толщины в режиме стоячей волны, образованной отражением от металлической поверхности, размещенной за пластиной. Проведено численное решение поставленных задач методом конечных элементов в двухмерной области. Представлены и проанализированы результаты моделирования – зависимость глубины проникновения выделяемой тепловой мощности в пластине и коэффициента отражения СВЧ-поля от ее влагосодержания, температуры и угла наклона облучающей антенны. Показано распределение тепловой мощности в сечении пластин различной толщины, соответствующей толщине пиломатериалов стандартных сортаментов. 2012-01-01T00:00:00Z https://elib.psu.by/handle/123456789/519 Title: Инновационные технологии в машиностроении "ИннТехМаш-11" Authors: Попок, Н. Н.; Иванов, В. П. 2012-01-01T00:00:00Z https://elib.psu.by/handle/123456789/518 Title: Оптимизация структуры массива фильтров-дециматоров с конечной импульсной характеристикой для реализации в программируемых логических интегральных схемах Authors: Белорусов, Д. И.; Щаденков, Ю. А. Abstract: Рассматривается архитектура конечной импульсной характеристики (КИХ) фильтра-дециматора буферного типа. Прорабатываются вопросы построения и реализации фильтра, которые позволяют значительно снизить требования к ресурсам ПЛИС при реализации массива фильтров для представления сигнала в цифровых полосах различного номинала. В качестве ключевого и наиболее «дефицитного» ресурса ПЛИС выбран умножитель. В статье приводится описание классической реализации КИХ-фильтра, рассчитывается количество умножителей, необходимых для ее реализации. В качестве альтернативы классического КИХ-фильтра-дециматора предлагается реализация КИХ-фильтра-дециматора буферного типа, а также прорабатываются вопросы оптимизации и симуляции предлагаемого фильтра. В основу оптимизации положены принципы сокращения количества умножений данных на коэффициенты фильтра: первый принцип – использование фильтра с симметричными относительно центрального коэффициентами; второй принцип – использование полуполосного фильтра с четными коэффициентами, равными нулю. 2012-01-01T00:00:00Z https://elib.psu.by/handle/123456789/517 Title: Исследование влияния электрических режимов плазмообразования на локальную химическую активность плазмы СВЧ-разряда Authors: Бордусов, С. В.; Мадвейко, С. И. Abstract: Исследуются скорости СВЧ-плазмохимического удаления фоторезистивных пленок с поверхности кремниевых пластин в зависимости от формы и частоты следования импульсов выходных сигналов анодного напряжения и тока источника вторичного электропитания СВЧ-магнетрона, построенного на базе высоковольтного трансформатора, работающего в режиме насыщения. Рассматривается влияние различного количества объектов обработки, расположенных в объеме разрядной камеры, на скорость плазмохимического удаления фоторезистивных пленок с поверхности кремниевых пластин. Установлена возможность стабильной и устойчивой работы низкодобротного СВЧ-магнетрона непрерывного действия (типа М-105, М-112) на плазменную нагрузку с упрощенными схемами питания выпрямленным нефильтрованным напряжением с частотой следования электрических импульсов 50 и 100 Гц. Определена более высокая (в 1,3 раза) эффективность применения для целей СВЧ-плазмохимической обработки полупроводниковых пластин 100-герцовой схемы питания СВЧ-магнетрона с умножением анодного напряжения по сравнению с 50-герцовой при одинаковых величинах потребляемой источниками питания электрической мощности. Установлен эффект влияния на скорость процесса плазменного удаления фоторезистивных пленок с поверхности полупроводниковых пластин задержки начала плазмообразования по отношению к началу генерации магнетроном СВЧ-мощности. 2012-01-01T00:00:00Z