Особенности формирования эмиттирующей поверхности в плазменных источниках электронов

Abstract

Численным моделированием исследуется влияние на положение и форму плазменного эмиттера характеристик плазменных источников электронов. Приводится сравнительная характеристика различных способов формирования плазменной поверхности: полем ускоряющего электрода, полем ионного слоя, суперпозицией полей. Показывается эффективность режима управления током пучка путем изменения протяженности пристеночного ионного слоя как способа получении пучков с малой компрессией. Изменение протяженности ионного слоя позволяет формировать слаборасходящиеся пучки в широком диапазоне ускоряющих напряжений, параметров плазмы и геометрических размеров электронно-оптической системы, а также получать сверхтонкие пучки высокой яркости.