Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.psu.by/handle/123456789/16412Full metadata record
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Мельников, С. Н. | - |
| dc.contributor.author | Кундас, С. П. | - |
| dc.date.accessioned | 2016-04-12T12:40:42Z | - |
| dc.date.available | 2016-04-12T12:40:42Z | - |
| dc.date.issued | 2008 | - |
| dc.identifier.citation | Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. - 2008. - № 3. - C. 92-98. | ru_RU |
| dc.identifier.issn | 2070-1624 | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://elib.psu.by/handle/123456789/16412 | - |
| dc.description.abstract | Предложена математическая модель, позволяющая рассчитывать формирование тонкопленочных покрытий при магнетронном распылении материалов и объединяющая математическое описание магнитных полей ионно-плазменных устройств, движения электронов и распыляемого вещества в электромагнитном поле, конденсации его на подложке. Модель применима для анализа и проектирования осесимметричных магнетронных распылительных систем. Магнитное поле магнетронной распылительной системы, его форма, распределение, магнитная индукция оказывают влияние на характеристики магнетронного разряда, на коэффициент распыления мишени. Если известно распределение магнитного поля магнетрона, то можно заранее определить его рабочие характеристики и, как результат, получить магнетронную распылительную систему с требуемыми параметрами и разрядными характеристиками. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | Полоцкий государственный университет | ru_RU |
| dc.relation.ispartof | Веснік Полацкага дзяржаўнага ўніверсітэта. Серыя C, Фундаментальныя навукі | be_BE |
| dc.relation.ispartof | Herald of Polotsk State University. Series C, Fundamental sciences | en_EN |
| dc.relation.ispartof | Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки | ru_RU |
| dc.relation.ispartofseries | Серия C, Фундаментальные науки;2008. - № 3 | - |
| dc.rights | open access | ru_RU |
| dc.subject | ионно-плазменное напыление | ru_RU |
| dc.subject | распылительные системы | ru_RU |
| dc.subject | модели функционирования покрытий | ru_RU |
| dc.title | Модель процесса осаждения тонких пленок магнетронным распылением | ru_RU |
| dc.type | Article | ru_RU |
| dc.identifier.udc | 533.9 | ru_RU |
| Appears in Collections: | 2008, № 3 | |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.