Плазменные эмиссионные системы для электронно-лучевых технологий. Часть 1

Abstract

С целью поддержания конкурентоспособности на рынке машиностроения, предприятия вынуждены предъявлять более жесткие требования к качеству производимой продукции, в связи с чем повышаются требования к процессам сварки, обработки поверхности и др. Для достижения предъявляемых требований предлагается использовать плазменный источник электронов. Представлены основные электронно-лучевые технологии. Предложена газоразрядная структура источника, способная формировать электронные и ионные пучки с параметрами, удовлетворяющими представленным технологиям. Ключевые слова: электронно-лучевая пушка, сварка, электронно-лучевые технологии= Order to maintain competitiveness in the mechanical engineering market, enterprises are forced to impose more strict requirements for the quality of manufactured products, and therefore the increased requirements for welding processes, surface treatment, etc. To achieve entry requirements are encouraged to use a plasma electron source. The main electron beam technologies are shown. Presented the gas-discharge structure that can forming electron and ion beams, with parameters that satisfying to represented technologies.