Методы формирования пучков заряженных частиц большого сечения

Abstract

Повышение эффективности и качества электронно-лучевой обработки поверхности материалов, является одним из важных вопросов в процессе разработки технологического оборудования. Для решения данной задачи предполагается использование электронно- лучевого ассистирования, подразумевающего попеременное или одновременное воздействие пучками заряженных частиц обоих типов на обрабатываемую поверхность. В данной работе рассмотрен метод, способный обеспечивать такое воздействие. Ключевые слова: электронно-лучевая обработка, плазма, плазменный эмиттер, мультиразрядная панель.= Improving the efficiency and quality of electron-beam surface treatment of materials is one of the important issues in the process of developing technological equipment. To solve this problem, it is proposed to use electron-beam assistance, which implies alternating or simultaneous exposure to beams of charged particles of both types on the treated surface. In this paper, we consider a method capable of providing such an impact.