Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.psu.by/handle/123456789/40095
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorЗайцев, В. А.ru_RU
dc.contributor.authorМельникова, В. В.ru_RU
dc.contributor.authorПодрябинкин, Д. А.ru_RU
dc.contributor.authorДанилюк, А. Л.ru_RU
dc.contributor.authorZaitsau, U.en_EN
dc.contributor.authorMelnikova, V.en_EN
dc.contributor.authorPodryabinkin, D.en_EN
dc.contributor.authorDanilyuk, A.en_EN
dc.date.accessioned2023-11-15T13:09:47Z-
dc.date.available2023-11-15T13:09:47Z-
dc.date.issued2023
dc.identifier.citationЗайцев, В. А. Модель взаимосвязи электрофизических параметров транзисторной структуры с двумерным каналом для систем автоматизированного проектирования / В. А. Зайцев, В. В. Мельникова, Д. А. Подрябинкин, А. Л. Данилюк // Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. - 2023. - № 2 (41). - С. 63-68. - DOI: 10.52928/2070-1624-2023-41-2-63-68ru_RU
dc.identifier.urihttps://elib.psu.by/handle/123456789/40095-
dc.description.abstractПредставлена модель и установлены закономерности взаимосвязи электрофизических параметров транзисторной структуры с двумерным каналом, основанные на самосогласовании электрохимического потенциала и концентрации носителей заряда двумерного канала в полевой транзисторной структуре. Такое самосогласование обеспечивается совмещением статистики Ферми – Дирака с условием электронейтральности транзисторной структуры. Рассмотрено влияние на электрофизические параметры транзисторной структуры с двумерным полупроводниковым каналом ширины запрещенной зоны материала канала, емкости подзатворного диэлектрика, емкости интерфейсных состояний. Разработанная модель взаимосвязи электрофизических параметров транзисторной структуры с двумерным каналом может использоваться в системах автоматизированного проектирования элементной базы микрои наноэлектроники.ru_RU
dc.language.isoruru
dc.publisherПолоцкий государственный университет имени Евфросинии Полоцкойru_RU
dc.rightsopen access
dc.titleМодель взаимосвязи электрофизических параметров транзисторной структуры с двумерным каналом для систем автоматизированного проектированияru_RU
dc.title.alternativeElectrophysical Parameters Interrelation Model for Cad Systemsru_RU
dc.typeArticleru_RU
dc.citation.spage63ru_RU
dc.citation.epage68ru_RU
dc.identifier.doi10.52928/2070-1624-2023-41-2-63-68
local.description.annotationA model is presented and regularities are established for the relationship between the electrophysical parameters of a transistor structure and a two-dimensional channel, based on the self-consistency of the electrochemical potential and the concentration of charge carriers of a two-dimensional channel in a field-effect transistor structure. Such self-consistency is ensured by combining the Fermi – Dirac statistics with the condition of electrical neutrality of the transistor structure. The effect on the electrophysical parameters of a transistor structure with a two-dimensional semiconductor channel is considered for the band gap of the channel material, the capacitance of the gate dielectric, and the capacitance of interface states. The developed model of the relationship between the electrophysical parameters of a transistor structure with a two-dimensional channel can be used in computeraided design systems for the element base of micro- and nanoelectronics.ru_RU
Appears in Collections:2023, № 2 (41)

Files in This Item:
File SizeFormat 
63-68.pdf350.66 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.