Усовершенствование плазмотрона для плазмохимического нанесения тонкопленочных покрытий

Abstract

Рассматриваются технологические и конструктивные особенности дугового плазмотрона для нанесения тонкопленочных кремнийсодержащих покрытий осаждением из дуговой плазмы при атмосферном давлении. Проведенный комплекс экспериментальных и конструкторских работ позволил оптимизировать технологию нанесения тонкопленочных покрытий, улучшить качество наносимого покрытия и повысить стабильность процесса за счет использования новых решений, исключающих или значительно ослабляющих проявление негативных процессов внутри плазмотрона.= Are considered technological and design features arc plasma generator for drawing of thin-film siliceous coverings by sedimentation from arc plasma at atmospheric pressure. The spent complex of experimental and design works has allowed to optimise technology of drawing of thin-film coverings, to improve quality of a put covering and to raise stability of process at the expense of use of the new decisions excluding or negative processes considerably weakening display inside plasma generator.