Please use this identifier to cite or link to this item: http://elib.psu.by:8080/handle/123456789/87
Title: Сквозное моделирование процессов нанесения покрытий при магнетронном распылении
Authors: Голосов, Д. А.
Завадский, С. М.
Мельников, С. Н.
Issue Date: Mar-2013
Publisher: Новополоцк: ПГУ
Citation: Вестник Полоцкого государственного университета. Сер. C, Фундаментальные науки.- Новополоцк: ПГУ.- 2013. - № 4. - С. 75-82
Series/Report no.: Серия C, Фундаментальные науки;2013.- № 4
Abstract: Представлены разработанные методики для моделирования процессов магнетронного распыле ния. Показаны два этапа процесса моделирования: расчет профиля эрозии мишени; формирование профиля толщины тонкопленочных слоев для различных форм зон распыления и систем перемещения подложек (неподвижные подложка и магнетрон; линейное перемещение подложек; нанесение с барабанными вращающимися подложкодержателями при расположении магнетрона снаружи или внутри ба рабана). Анализ результатов моделирования свидетельствует о том, что погрешность моделей не превышает 10 %. Модели для формирования покрытия могут использоваться только для моделирования процессов магнетронного нанесения слоев при рабочем давлении в зоне нанесения не более 1 Па, так как не учитывают эффекты термализации распыленного потока.
Description: END-TO-END MODELLING OF THE PROCESSES OF APPLICATION OF COATINGS AT MAGNETRON DISPENSING / D. GOLOSOV, S. ZAVADSKY, S. MELNIKOV
URI: http://elib.psu.by:8080/handle/123456789/87
Appears in Collections:2013, № 4

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Golosov_Zavadskij_2013-4.pdf650.99 kBAdobe PDFThumbnail
View/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.