Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.psu.by/handle/123456789/87| Title: | Сквозное моделирование процессов нанесения покрытий при магнетронном распылении |
| Authors: | Голосов, Д. А. Завадский, С. М. Мельников, С. Н. |
| Other Titles: | End-To-End Modelling of the Processes of Application of Coatings at Magnetron Dispensing |
| Issue Date: | 2013 |
| Publisher: | Полоцкий государственный университет |
| Citation: | Вестник Полоцкого государственного университета. Сер. C, Фундаментальные науки.- Новополоцк: ПГУ.- 2013. - № 4. - С. 75-82. |
| Abstract: | Представлены разработанные методики для моделирования процессов магнетронного распыле ния. Показаны два этапа процесса моделирования: расчет профиля эрозии мишени; формирование профиля толщины тонкопленочных слоев для различных форм зон распыления и систем перемещения подложек (неподвижные подложка и магнетрон; линейное перемещение подложек; нанесение с барабанными вращающимися подложкодержателями при расположении магнетрона снаружи или внутри ба рабана). Анализ результатов моделирования свидетельствует о том, что погрешность моделей не превышает 10 %. Модели для формирования покрытия могут использоваться только для моделирования процессов магнетронного нанесения слоев при рабочем давлении в зоне нанесения не более 1 Па, так как не учитывают эффекты термализации распыленного потока. |
| URI: | https://elib.psu.by/handle/123456789/87 |
| metadata.dc.rights: | open access |
| Appears in Collections: | 2013, № 4 |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.