Модификация структуры в имплантированных пленках полиимида за областью пробега ионов

Abstract

В тонких (d = 40 мкм) пленках полиимида, имплантированных ионами Ni+, Mn+, Fe+, Co+, Ag+ и B+ с энергией 30…100 кэВ в интервале доз D = 1•1015…1,5•1017 см–2 при плотности ионного тока j = 4… 12 мкА/см2, изучены спектральные зависимости коэффициента отражения при падении света как на имплантированную, так и на неимплантированную поверхность. Обнаружено увеличение интегрального коэффициента отражения и увеличение интенсивности отражения при λ1 = 254 и λ2 = 311 нм и падении света на неимплантированную сторну, то есть далеко за пределами области внедрения ионов, обусловленное перестройкой структуры в приповерхностом слое полимерной матрицы. Модификация структуры полимера за пределами пробега имплантированных ионов связана с релаксацией в процессе имплантации упругих приповерхностных напряжений, возникающих при производстве пленки.= Thin (40 mm) films of polyimide have been implanted by Ni+, Mn+, Fe+, Co+, Ag+ и B+ ions with energy 30…100 keV in a dose range D = 1·1015…1,5·1017 см-2 at ions current density j = 4… 12 mА/см2. Reflectivity of non-implanted surface have been investigated in the wave length range 210…480 nm. Increasing of integral reflectivity coefficient and reflection intensity at λ1 = 254 and λ2 = 311 nm were observed because of elastic exertion relaksation of polyimide structure in near-surface region during implantation beyond ions projected range.