Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.psu.by/handle/123456789/24909
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorАнтонович, Д. А.-
dc.contributor.authorГруздев, В. А.-
dc.contributor.authorСолдатенко, П. Н.-
dc.contributor.authorЗалесский, В. Г.-
dc.contributor.authorAntonovich, D.-
dc.contributor.authorGruzdev, V.-
dc.contributor.authorSoldatenko, P.-
dc.contributor.authorZaleski, V.-
dc.date.accessioned2020-05-26T08:38:23Z-
dc.date.available2020-05-26T08:38:23Z-
dc.date.issued2020-
dc.identifier.citationАнтонович, Д. А. Электродная структура плазменного электронно-ионного источника для совместного формирования электронных и ионных пучков / Д. А. Антонович, В. А. Груздев, П. Н. Солдатенко, В. Г. Залесский // Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. - 2020. - № 4. - С. 53-57.ru_RU
dc.identifier.issn2070-1624-
dc.identifier.urihttps://elib.psu.by/handle/123456789/24909-
dc.description.abstractОпыт разработки и применения источников электронов и ионов с плазменными эмиттерами позволяет предполагать возможность создания совмещенного ионно-электронного пучка на основе единой плазменной структуры с определенными в ней электростатическими слоями, формирующими в едином объеме ионный и электронный потоки одного направления. В данной работе предложена экспериментальная электродная структура плазменного электронно-ионного источника для совместного формирования электронных и ионных пучков, приведен ряд характеристик, показана перспективность дальнейшей разработки на ее основе электронно-ионного источника для промышленного применения.= The experience of developing and using electron and ion sources with plasma emitters suggests the possibility of creating a combined ion-electron beam based on a single plasma structure with certain electrostatic layers in it, forming ion and electron flows in the same direction and in a single volume. in this work, the experimental electrode structure of a plasma electron-ion source for the joint formation of electron and ion beams is proposed, a number of characteristics are given, and the prospects for the further development of an electron-ion source for industrial application on its basis are shown.ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherПолоцкий государственный университетru_RU
dc.relation.ispartofВеснік Полацкага дзяржаўнага ўніверсітэта. Серыя C, Фундаментальныя навукіbe_BE
dc.relation.ispartofHerald of Polotsk State University. Series C, Fundamental sciencesen_EN
dc.relation.ispartofВестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные наукиru_RU
dc.relation.ispartofseriesСерия C, Фундаментальные науки;2020. - № 4-
dc.rightsopen accessru_RU
dc.subjectГосударственный рубрикатор НТИ - ВИНИТИ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физикаru_RU
dc.subjectПлазменный источник заряженных частицru_RU
dc.subjectЭлектронно-ионное воздействиеru_RU
dc.subjectЭлектронные пучкиru_RU
dc.subjectКомпенсированные ионные пучкиru_RU
dc.subjectPlasma source of charged particlesru_RU
dc.subjectElectron-ion influenceru_RU
dc.subjectElectron beamsru_RU
dc.subjectCompensated ion beamsru_RU
dc.titleЭлектродная структура плазменного электронно-ионного источника для совместного формирования электронных и ионных пучковru_RU
dc.title.alternativeThe Electrode Structure of a Plasma Electron-Ion Source for the Simultaneos Formation of Electron And Ion Beamsru_RU
dc.typeArticleru_RU
dc.identifier.udc537.533-
Appears in Collections:2020, № 4
Электрофизика. Плазменные эмиссионные системы.

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
53-57.pdf433.45 kBAdobe PDFThumbnail
View/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.