Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://elib.psu.by/handle/123456789/24909
Название: Электродная структура плазменного электронно-ионного источника для совместного формирования электронных и ионных пучков
Авторы: Антонович, Д. А.
Груздев, В. А.
Солдатенко, П. Н.
Залесский, В. Г.
Antonovich, D.
Gruzdev, V.
Soldatenko, P.
Zaleski, V.
Другие названия: The Electrode Structure of a Plasma Electron-Ion Source for the Simultaneos Formation of Electron And Ion Beams
Дата публикации: 2020
Издатель: Полоцкий государственный университет
Библиографическое описание: Антонович, Д. А. Электродная структура плазменного электронно-ионного источника для совместного формирования электронных и ионных пучков / Д. А. Антонович, В. А. Груздев, П. Н. Солдатенко, В. Г. Залесский // Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. - 2020. - № 4. - С. 53-57.
Аннотация: Опыт разработки и применения источников электронов и ионов с плазменными эмиттерами позволяет предполагать возможность создания совмещенного ионно-электронного пучка на основе единой плазменной структуры с определенными в ней электростатическими слоями, формирующими в едином объеме ионный и электронный потоки одного направления. В данной работе предложена экспериментальная электродная структура плазменного электронно-ионного источника для совместного формирования электронных и ионных пучков, приведен ряд характеристик, показана перспективность дальнейшей разработки на ее основе электронно-ионного источника для промышленного применения.= The experience of developing and using electron and ion sources with plasma emitters suggests the possibility of creating a combined ion-electron beam based on a single plasma structure with certain electrostatic layers in it, forming ion and electron flows in the same direction and in a single volume. in this work, the experimental electrode structure of a plasma electron-ion source for the joint formation of electron and ion beams is proposed, a number of characteristics are given, and the prospects for the further development of an electron-ion source for industrial application on its basis are shown.
Ключевые слова: Государственный рубрикатор НТИ - ВИНИТИ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Плазменный источник заряженных частиц
Электронно-ионное воздействие
Электронные пучки
Компенсированные ионные пучки
Plasma source of charged particles
Electron-ion influence
Electron beams
Compensated ion beams
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): https://elib.psu.by/handle/123456789/24909
Права доступа: open access
Располагается в коллекциях:2020, № 4
Электрофизика. Плазменные эмиссионные системы.

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
53-57.pdf433.45 kBAdobe PDFЭскиз
Просмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.