Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
https://elib.psu.by/handle/123456789/24909
Название: | Электродная структура плазменного электронно-ионного источника для совместного формирования электронных и ионных пучков |
Авторы: | Антонович, Д. А. Груздев, В. А. Солдатенко, П. Н. Залесский, В. Г. Antonovich, D. Gruzdev, V. Soldatenko, P. Zaleski, V. |
Другие названия: | The Electrode Structure of a Plasma Electron-Ion Source for the Simultaneos Formation of Electron And Ion Beams |
Дата публикации: | 2020 |
Издатель: | Полоцкий государственный университет |
Библиографическое описание: | Антонович, Д. А. Электродная структура плазменного электронно-ионного источника для совместного формирования электронных и ионных пучков / Д. А. Антонович, В. А. Груздев, П. Н. Солдатенко, В. Г. Залесский // Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. - 2020. - № 4. - С. 53-57. |
Аннотация: | Опыт разработки и применения источников электронов и ионов с плазменными эмиттерами позволяет предполагать возможность создания совмещенного ионно-электронного пучка на основе единой плазменной структуры с определенными в ней электростатическими слоями, формирующими в едином объеме ионный и электронный потоки одного направления. В данной работе предложена экспериментальная электродная структура плазменного электронно-ионного источника для совместного формирования электронных и ионных пучков, приведен ряд характеристик, показана перспективность дальнейшей разработки на ее основе электронно-ионного источника для промышленного применения.= The experience of developing and using electron and ion sources with plasma emitters suggests the possibility of creating a combined ion-electron beam based on a single plasma structure with certain electrostatic layers in it, forming ion and electron flows in the same direction and in a single volume. in this work, the experimental electrode structure of a plasma electron-ion source for the joint formation of electron and ion beams is proposed, a number of characteristics are given, and the prospects for the further development of an electron-ion source for industrial application on its basis are shown. |
Ключевые слова: | Государственный рубрикатор НТИ - ВИНИТИ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика Плазменный источник заряженных частиц Электронно-ионное воздействие Электронные пучки Компенсированные ионные пучки Plasma source of charged particles Electron-ion influence Electron beams Compensated ion beams |
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): | https://elib.psu.by/handle/123456789/24909 |
Права доступа: | open access |
Располагается в коллекциях: | 2020, № 4 Электрофизика. Плазменные эмиссионные системы. |
Файлы этого ресурса:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
53-57.pdf | 433.45 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.