Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.psu.by/handle/123456789/28473
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorСвадковский, И. В.-
dc.contributor.authorМельников, С. Н.-
dc.contributor.authorКундас, С. П.-
dc.date.accessioned2021-12-31T07:47:26Z-
dc.date.available2021-12-31T07:47:26Z-
dc.date.issued2004-
dc.identifier.citationВестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. - 2004. - № 11. - C. 63-69.ru_RU
dc.identifier.issn2070-1624-
dc.identifier.urihttps://elib.psu.by/handle/123456789/28473-
dc.description.abstractПредставлена разработанная 3D-модель, позволяющая рассчитывать профиль распределения толщины тонкопленочного покрытия при ионно-лучевом распылении и оптимизировать распылительную систему, включающую в себя подложку, мишень и кольцевой ионный источник на основе ускорителя с анодным слоем.ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherПолоцкий государственный университетru_RU
dc.relation.ispartofВеснік Полацкага дзяржаўнага ўніверсітэта. Серыя C, Фундаментальныя навукіbe_BE
dc.relation.ispartofHerald of Polotsk State University. Series C, Fundamental sciencesen_EN
dc.relation.ispartofВестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные наукиru_RU
dc.relation.ispartofseriesСерия C, Фундаментальные науки;2004. - № 11-
dc.rightsopen accessru_RU
dc.subjectГосударственный рубрикатор НТИ - ВИНИТИ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физикаru_RU
dc.titleМоделирование процесса ионно-лучевого распыления из кольцевого ионного источникаru_RU
dc.typeArticleru_RU
dc.identifier.udc533.9.924+621.793.18-
Appears in Collections:2004, № 11

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
63-69.pdf270.03 kBAdobe PDFThumbnail
View/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.