Моделирование физико-технологических процессов формирования микро- и наноструктур ускоренными потоками ионов инертных и реактивных газов

Abstract

Рассматриваются физико-технологические процессы формирования микро- и наноструктур ускоренными потоками ионов инертных и реактивных газов. Предложена модель процесса нанесения тонких пленок на подложках с микронным рельефом. Обоснована эффективность применения ионных потоков при формировании тонких пленок, а также в различных областях современной науки и техники. На основании математической модели исследованы различные формы подложки относительно ионного потока. При увеличении расстояния между подложкой и источником толщина пленки уменьшается. Скорость напыления максимальна при минимальном угле наклона между подложкой и источником. При увеличении времени напыления толщина пленки возрастает пропорционально времени, а при увеличении угла наклона подложки к горизонтальной плоскости толщина пленки уменьшается.