1. Репозиторий Полоцкого государственного университета имени Евфросинии Полоцкой
  2. Периодические издания Полоцкого государственного университета имени Евфросинии Полоцкой
  3. Серия C. Фундаментальные науки. ISSN 2710-4230 (Online)
  4. 2024, № 2 (43)
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://elib.psu.by/handle/123456789/45949
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorАваков, С. М.ru_RU
dc.contributor.authorВоронов, А. А.ru_RU
dc.contributor.authorГанченко, В. В.ru_RU
dc.contributor.authorAvakov, S.en_EN
dc.contributor.authorVoronov, A.en_EN
dc.contributor.authorGanchenko, V.en_EN
dc.date.accessioned2024-11-21T06:35:28Z-
dc.date.available2024-11-21T06:35:28Z-
dc.date.issued2024
dc.identifier.citationАваков, С. М. Принципы проектирования и разработки программного обеспечения для оборудования контроля качества топологических структур в микроэлектронике / С. М. Аваков, А. А. Воронов, В. В. Ганченко // Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. - 2024. - № 2 (43). - С. 2-9. - DOI: 10.52928/2070-1624-2024-43-2-2-9ru_RU
dc.identifier.urihttps://elib.psu.by/handle/123456789/45949-
dc.description.abstractИзложены принципы создания программного обеспечения для установок, применяемых в микроэлектронной промышленности для проверки качества топологических структур, играющих ключевую роль в технологическом процессе производства установок контроля критических размеров и автоматического поиска дефектов. Предложен оригинальный алгоритм выбора функции резкости и проведены экспериментальные исследования, подтверждающие его эффективность для получения качественных исходных изображений топологии микросхем. Это обеспечивает высокую точность выполнения измерений установкой контроля критических размеров c использованием системы технического зрения и, как результат, повышает процент выхода годных изделий в микроэлектронике.ru_RU
dc.language.isoruru
dc.publisherПолоцкий государственный университет имени Евфросинии Полоцкойru_RU
dc.rightsopen accessru_RU
dc.titleПринципы проектирования и разработки программного обеспечения для оборудования контроля качества топологических структур в микроэлектроникеru_RU
dc.title.alternativeSoftware Design Pattern for Equipment of Automatic Mask Inspection Systems in Microelectronicsru_RU
dc.typeArticleru_RU
dc.identifier.doi10.52928/2070-1624-2024-43-2-2-9
local.description.annotationThe paper investigates a relevant applied problem associated with software development for building equipment of automatic mask inspection systems and quality control topological structures in the microelectronics industry. This problem is one of key issues of design flow for equipment of automatic mask inspection systems and automatic defects detection. An original approach is proposed for selecting the sharpness function. Experiments have been conducted that confirm the effectiveness of original approach for obtaining high-quality initial images in equipment of automatic mask inspection systems using a technical vision system and, as a result, increases the percentage of yield of suitable products in microelectronics.ru_RU
Располагается в коллекциях:2024, № 2 (43)

Файлы этого ресурса:
Файл РазмерФормат 
2-9.pdf944.29 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать базовое описание ресурса Порекомендовать ресурс Google Scholar


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.