Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
https://elib.psu.by/handle/123456789/45949| Название: | Принципы проектирования и разработки программного обеспечения для оборудования контроля качества топологических структур в микроэлектронике |
| Авторы: | Аваков, С. М. Воронов, А. А. Ганченко, В. В. Avakov, S. Voronov, A. Ganchenko, V. |
| Другие названия: | Software Design Pattern for Equipment of Automatic Mask Inspection Systems in Microelectronics |
| Дата публикации: | 2024 |
| Издатель: | Полоцкий государственный университет имени Евфросинии Полоцкой |
| Библиографическое описание: | Аваков, С. М. Принципы проектирования и разработки программного обеспечения для оборудования контроля качества топологических структур в микроэлектронике / С. М. Аваков, А. А. Воронов, В. В. Ганченко // Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. - 2024. - № 2 (43). - С. 2-9. - DOI: 10.52928/2070-1624-2024-43-2-2-9 |
| Аннотация: | Изложены принципы создания программного обеспечения для установок, применяемых в микроэлектронной промышленности для проверки качества топологических структур, играющих ключевую роль в технологическом процессе производства установок контроля критических размеров и автоматического поиска дефектов. Предложен оригинальный алгоритм выбора функции резкости и проведены экспериментальные исследования, подтверждающие его эффективность для получения качественных исходных изображений топологии микросхем. Это обеспечивает высокую точность выполнения измерений установкой контроля критических размеров c использованием системы технического зрения и, как результат, повышает процент выхода годных изделий в микроэлектронике. |
| Аннотация на другом языке: | The paper investigates a relevant applied problem associated with software development for building equipment of automatic mask inspection systems and quality control topological structures in the microelectronics industry. This problem is one of key issues of design flow for equipment of automatic mask inspection systems and automatic defects detection. An original approach is proposed for selecting the sharpness function. Experiments have been conducted that confirm the effectiveness of original approach for obtaining high-quality initial images in equipment of automatic mask inspection systems using a technical vision system and, as a result, increases the percentage of yield of suitable products in microelectronics. |
| URI (Унифицированный идентификатор ресурса): | https://elib.psu.by/handle/123456789/45949 |
| Права доступа: | open access |
| DOI: | 10.52928/2070-1624-2024-43-2-2-9 |
| Располагается в коллекциях: | 2024, № 2 (43) |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|
| 2-9.pdf | 944.29 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.