Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
https://elib.psu.by/handle/123456789/87Полная запись метаданных
| Поле DC | Значение | Язык |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Голосов, Д. А. | - |
| dc.contributor.author | Завадский, С. М. | - |
| dc.contributor.author | Мельников, С. Н. | - |
| dc.date.accessioned | 2013-10-03T12:27:01Z | - |
| dc.date.available | 2013-10-03T12:27:01Z | - |
| dc.date.issued | 2013 | - |
| dc.identifier.citation | Вестник Полоцкого государственного университета. Сер. C, Фундаментальные науки.- Новополоцк: ПГУ.- 2013. - № 4. - С. 75-82. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://elib.psu.by/handle/123456789/87 | - |
| dc.description.abstract | Представлены разработанные методики для моделирования процессов магнетронного распыле ния. Показаны два этапа процесса моделирования: расчет профиля эрозии мишени; формирование профиля толщины тонкопленочных слоев для различных форм зон распыления и систем перемещения подложек (неподвижные подложка и магнетрон; линейное перемещение подложек; нанесение с барабанными вращающимися подложкодержателями при расположении магнетрона снаружи или внутри ба рабана). Анализ результатов моделирования свидетельствует о том, что погрешность моделей не превышает 10 %. Модели для формирования покрытия могут использоваться только для моделирования процессов магнетронного нанесения слоев при рабочем давлении в зоне нанесения не более 1 Па, так как не учитывают эффекты термализации распыленного потока. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | Полоцкий государственный университет | ru_RU |
| dc.relation.ispartof | Веснік Полацкага дзяржаўнага ўніверсітэта. Серыя C, Фундаментальныя навукі | be_BE |
| dc.relation.ispartof | Herald of Polotsk State University. Series C, Fundamental sciences | en_EN |
| dc.relation.ispartof | Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки | ru_RU |
| dc.relation.ispartofseries | Серия C, Фундаментальные науки;2013.- № 4 | - |
| dc.rights | open access | ru_RU |
| dc.title | Сквозное моделирование процессов нанесения покрытий при магнетронном распылении | ru_RU |
| dc.title.alternative | End-To-End Modelling of the Processes of Application of Coatings at Magnetron Dispensing | ru_RU |
| dc.type | Article | ru_RU |
| Располагается в коллекциях: | 2013, № 4 | |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 75-82.pdf | 720.35 kB | Adobe PDF |  Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.