Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
https://elib.psu.by/handle/123456789/87| Название: | Сквозное моделирование процессов нанесения покрытий при магнетронном распылении |
| Авторы: | Голосов, Д. А. Завадский, С. М. Мельников, С. Н. |
| Другие названия: | End-To-End Modelling of the Processes of Application of Coatings at Magnetron Dispensing |
| Дата публикации: | 2013 |
| Издатель: | Полоцкий государственный университет |
| Библиографическое описание: | Вестник Полоцкого государственного университета. Сер. C, Фундаментальные науки.- Новополоцк: ПГУ.- 2013. - № 4. - С. 75-82. |
| Аннотация: | Представлены разработанные методики для моделирования процессов магнетронного распыле ния. Показаны два этапа процесса моделирования: расчет профиля эрозии мишени; формирование профиля толщины тонкопленочных слоев для различных форм зон распыления и систем перемещения подложек (неподвижные подложка и магнетрон; линейное перемещение подложек; нанесение с барабанными вращающимися подложкодержателями при расположении магнетрона снаружи или внутри ба рабана). Анализ результатов моделирования свидетельствует о том, что погрешность моделей не превышает 10 %. Модели для формирования покрытия могут использоваться только для моделирования процессов магнетронного нанесения слоев при рабочем давлении в зоне нанесения не более 1 Па, так как не учитывают эффекты термализации распыленного потока. |
| URI (Унифицированный идентификатор ресурса): | https://elib.psu.by/handle/123456789/87 |
| Права доступа: | open access |
| Располагается в коллекциях: | 2013, № 4 |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 75-82.pdf | 720.35 kB | Adobe PDF |  Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.