Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://elib.psu.by/handle/123456789/16328
Название: Микротвердость пластин кремния, имплантированных высокоэнергетичными ионами бора
Авторы: Вабищевич, С. А.
Вабищевич, Н. В.
Бринкевич, Д. И.
Просолович, В. С.
Янковский, Ю. Н.
Дата публикации: 2008
Издатель: Полоцкий государственный университет
Библиографическое описание: Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. - 2008. - № 3. - C. 110-113.
Аннотация: Исследовано изменение микротвердости монокристаллического кремния при высокоэнергетичной имплантации ионов бора. Обнаружено упрочнение приповерхностного слоя (толщиной до 1 мкм) пластин, обусловленное формированием в указанном слое дефектов предположительно междоузельного типа. Эффект приповерхностного радиационного упрочнения существенно зависит от энергии и дозы имплантируемых ионов.
Ключевые слова: Энергетика
Полупроводниковые материалы и изделия
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): https://elib.psu.by/handle/123456789/16328
Права доступа: open access
Располагается в коллекциях:2008, № 3

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
110-113.pdf327.71 kBAdobe PDFЭскиз
Просмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.