Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
https://elib.psu.by/handle/123456789/16328
Название: | Микротвердость пластин кремния, имплантированных высокоэнергетичными ионами бора |
Авторы: | Вабищевич, С. А. Вабищевич, Н. В. Бринкевич, Д. И. Просолович, В. С. Янковский, Ю. Н. |
Дата публикации: | 2008 |
Издатель: | Полоцкий государственный университет |
Библиографическое описание: | Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. - 2008. - № 3. - C. 110-113. |
Аннотация: | Исследовано изменение микротвердости монокристаллического кремния при высокоэнергетичной имплантации ионов бора. Обнаружено упрочнение приповерхностного слоя (толщиной до 1 мкм) пластин, обусловленное формированием в указанном слое дефектов предположительно междоузельного типа. Эффект приповерхностного радиационного упрочнения существенно зависит от энергии и дозы имплантируемых ионов. |
Ключевые слова: | Энергетика Полупроводниковые материалы и изделия |
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): | https://elib.psu.by/handle/123456789/16328 |
Права доступа: | open access |
Располагается в коллекциях: | 2008, № 3 |
Файлы этого ресурса:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
110-113.pdf | 327.71 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.