Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.psu.by/handle/123456789/16328
Title: | Микротвердость пластин кремния, имплантированных высокоэнергетичными ионами бора |
Authors: | Вабищевич, С. А. Вабищевич, Н. В. Бринкевич, Д. И. Просолович, В. С. Янковский, Ю. Н. |
Issue Date: | 2008 |
Publisher: | Полоцкий государственный университет |
Citation: | Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. - 2008. - № 3. - C. 110-113. |
Abstract: | Исследовано изменение микротвердости монокристаллического кремния при высокоэнергетичной имплантации ионов бора. Обнаружено упрочнение приповерхностного слоя (толщиной до 1 мкм) пластин, обусловленное формированием в указанном слое дефектов предположительно междоузельного типа. Эффект приповерхностного радиационного упрочнения существенно зависит от энергии и дозы имплантируемых ионов. |
Keywords: | Энергетика Полупроводниковые материалы и изделия |
URI: | https://elib.psu.by/handle/123456789/16328 |
metadata.dc.rights: | open access |
Appears in Collections: | 2008, № 3 |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
110-113.pdf | 327.71 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.