Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://elib.psu.by:8080/handle/123456789/16412
Название: Модель процесса осаждения тонких пленок магнетронным распылением
Авторы: Мельников, C. Н.
Кундас, С. П.
Ключевые слова: ионно-плазменное напыление
распылительные системы
модели функционирования покрытий
Дата публикации: Мар-2008
Издатель: Полоцкий государственный университет
Библиографическое описание: Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. - 2008. - № 3. - C. 92-98
Серия/номер: Серия C, Фундаментальные науки;2008. - № 3
Краткий осмотр (реферат): Предложена математическая модель, позволяющая рассчитывать формирование тонкопленочных покрытий при магнетронном распылении материалов и объединяющая математическое описание магнитных полей ионно-плазменных устройств, движения электронов и распыляемого вещества в электромагнитном поле, конденсации его на подложке. Модель применима для анализа и проектирования осесимметричных магнетронных распылительных систем. Магнитное поле магнетронной распылительной системы, его форма, распределение, магнитная индукция оказывают влияние на характеристики магнетронного разряда, на коэффициент распыления мишени. Если известно распределение магнитного поля магнетрона, то можно заранее определить его рабочие характеристики и, как результат, получить магнетронную распылительную систему с требуемыми параметрами и разрядными характеристиками.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): http://elib.psu.by:8080/handle/123456789/16412
ISSN: 2070-1624
Располагается в коллекциях:2008, № 3

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
Мельников, Кундас_2008-3.pdf446.47 kBAdobe PDFЭскиз
Просмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.