Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.psu.by/handle/123456789/28552| Title: | Адгезия гамма-облученных пленок позитивного фоторезиста к монокристаллическому кремнию |
| Authors: | Вабищевич, С. А. Вабищевич, Н. В. Бринкевич, Д. И. Просолович, В. С. Vabishchevich, S. Vabishchevich, N. Brinkevich, D. Prosolovich, V. |
| Other Titles: | ADHESION OF GAMMA-IRRADIATED FILMS OF A POSITIVE PHOTORESIST TO SINGLE CRYSTALLINE SILICON |
| Issue Date: | 2021 |
| Publisher: | Минск: БГУ |
| Citation: | Вабищевич, С. А. Адгезия гамма-облученных пленок_позитивного фоторезиста к монокристаллическому кремнию / С. А. Вабищевич [и др.] // Взаимодействие?излучений с твердым телом материалы 14-й междунар. конф., посвящ. 100-летию Белорус. гос. ун-та, Минск, 21–24 сент. 2021 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. В. Углов (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2021. - С. 259-263. |
| Abstract: | В работе методом индентирования исследовано влияние ?-облучения на адгезионные свойства пленок диазохинонноволачного фоторезиста ФП9120, нанесенных на пластины монокристаллического кремния методом центрифугирования. Установлено, что ?-облучение приводит к снижению значений удельной энергии отслаивания G фоторезистивных пленок на кремнии. При этом в ИК-спектрах фоторезиста в ходе ?-облучения было отмечено уменьшение интенсивности полос колебаний, связанных с Si–О–С фрагментом, ответственным за адгезию к кремнию. Наблюдаемые экспериментальные результаты объяснены с учетом радиационно-химических и релаксационных процессов, протекающих как на границе раздела фоторезист/кремний, так и в объеме полимерной пленки. |
| URI: | https://elib.psu.by/handle/123456789/28552 |
| Appears in Collections: | Публикации в изданиях Республики Беларусь |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| 259-263.pdf | 339.79 kB | Adobe PDF |  View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.