Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://elib.psu.by/handle/123456789/28552
Название: Адгезия гамма-облученных пленок позитивного фоторезиста к монокристаллическому кремнию
Авторы: Вабищевич, С. А.
Вабищевич, Н. В.
Бринкевич, Д. И.
Просолович, В. С.
Vabishchevich, S.
Vabishchevich, N.
Brinkevich, D.
Prosolovich, V.
Другие названия: ADHESION OF GAMMA-IRRADIATED FILMS OF A POSITIVE PHOTORESIST TO SINGLE CRYSTALLINE SILICON
Дата публикации: 2021
Издатель: Минск: БГУ
Библиографическое описание: Вабищевич, С. А. Адгезия гамма-облученных пленок_позитивного фоторезиста к монокристаллическому кремнию / С. А. Вабищевич [и др.] // Взаимодействие?излучений с твердым телом материалы 14-й междунар. конф., посвящ. 100-летию Белорус. гос. ун-та, Минск, 21–24 сент. 2021 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. В. Углов (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2021. - С. 259-263.
Аннотация: В работе методом индентирования исследовано влияние ?-облучения на адгезионные свойства пленок диазохинонноволачного фоторезиста ФП9120, нанесенных на пластины монокристаллического кремния методом центрифугирования. Установлено, что ?-облучение приводит к снижению значений удельной энергии отслаивания G фоторезистивных пленок на кремнии. При этом в ИК-спектрах фоторезиста в ходе ?-облучения было отмечено уменьшение интенсивности полос колебаний, связанных с Si–О–С фрагментом, ответственным за адгезию к кремнию. Наблюдаемые экспериментальные результаты объяснены с учетом радиационно-химических и релаксационных процессов, протекающих как на границе раздела фоторезист/кремний, так и в объеме полимерной пленки.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): https://elib.psu.by/handle/123456789/28552
Располагается в коллекциях:Публикации в изданиях Республики Беларусь

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
259-263.pdf339.79 kBAdobe PDFЭскиз
Просмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.