Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.psu.by/handle/123456789/38455
Title: Индентирование облученных электронами пленок диазохинон-новолачных фоторезистов на кремнии
Authors: Вабищевич, С. А.
Вабищевич, Н. В.
Бринкевич, Д. И.
Просолович, В. С.
Vabishchevich, S.
Vabishchevich, N.
Brinkevich, D.
Prosolovich, V.
Other Titles: Indentation of Electron-Irrauded Films of Diazoquinone Novolac Photoresists on Silicone
Issue Date: 2023
Publisher: Полоцкий государственный университет имени Евфросинии Полоцкой
Citation: Вабищевич, С. А. Индентирование облученных электронами пленок диазохинон-новолачных фоторезистов на кремнии / С. А. Вабищевич, Н. В. Вабищевич, Д. И. Бринкевич, В. С. Просолович // Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. - 2023. - № 1 (40). - С. 29-37. - DOI: 10.52928/2070-1624-2023-40-1-29-37.
Abstract: Методом индентирования изучены прочностные свойства облученных электронами с энергией 5 МэВ флюенсом 3?1016 см-2 пленок диазохинон-новолачных фоторезистов ФП9120, SPR 700 и S1813 G2 SP15 на кремнии. Опечатки микроиндентора в пленках диазахинон-новолачных фоторезистов имеют бочковидную форму, что свидетельствует о наличии растягивающих напряжений, формирующихся при сушке пленки. Вокруг отпечатков индентора наблюдалась картина разрушений с радиальными и боковыми трещинами в виде «бабочек». Установлено, что при длительном хранении и облучении пленок диазохинон-новолачных фоторезистов имеет место увеличение значений истинной микротвердости пленок, которое обусловлено сшиванием макромолекул новолака в объеме полимера.
metadata.local.description.annotation: The strength properties of FP9120, SPR 700 and S1813 G2 SP15 diazoquinone novolac photoresist films on silicon irradiated by 5 MeV electrons with a fluence of 3 1016 cm-2 were studied by indentation. Misprints of the microindenter in films of diazaquinone novolac photoresist are barrel-shaped, which indicates the presence of tensile stresses that form during film drying. A destruction zone with radial and lateral cracks was observed around the indenter prints, forming a pattern in the form of "butterflies". It has been established that during longterm storage and irradiation of films of diazoquinone novolac photoresists, an increase in the values of the true microhardness of the films takes place, which is due to the cross-linking of novolac macromolecules in the bulk of the polymer.
URI: https://elib.psu.by/handle/123456789/38455
metadata.dc.rights: open access
metadata.dc.identifier.doi: 10.52928/2070-1624-2023-40-1-29-37
Appears in Collections:2023, № 1 (40)

Files in This Item:
File SizeFormat 
29-37.pdf790.8 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.