Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.psu.by/handle/123456789/39085
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorБринкевич, Д. И.-
dc.contributor.authorБринкевич, С. Д.-
dc.contributor.authorВабищевич, Н. В.-
dc.contributor.authorОджаев, В. Б.-
dc.contributor.authorПросолович, В. С.-
dc.date.accessioned2023-11-01T12:08:13Z-
dc.date.available2023-11-01T12:08:13Z-
dc.date.issued2014-
dc.identifier.citationИонная имплантация позитивных фоторезистов / Д. И. Бринкевич [и др.] // Микроэлектроника; Российская академия наук, Физико-технологический институт им. К.А. Валиева РАН, 2014. – Т. 43. - № 3– С. 193-199.ru_RU
dc.identifier.urihttps://elib.psu.by/handle/123456789/39085-
dc.language.isoruru_RU
dc.titleИонная имплантация позитивных фоторезистовru_RU
dc.typeArticleru_RU
Appears in Collections:Публикации в зарубежных изданиях

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
193-199.pdf518.76 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.