Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://elib.psu.by/handle/123456789/39085
Название: Ионная имплантация позитивных фоторезистов
Авторы: Бринкевич, Д. И.
Бринкевич, С. Д.
Вабищевич, Н. В.
Оджаев, В. Б.
Просолович, В. С.
Дата публикации: 2014
Библиографическое описание: Ионная имплантация позитивных фоторезистов / Д. И. Бринкевич [и др.] // Микроэлектроника; Российская академия наук, Физико-технологический институт им. К.А. Валиева РАН, 2014. – Т. 43. - № 3– С. 193-199.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): https://elib.psu.by/handle/123456789/39085
Располагается в коллекциях:Публикации в зарубежных изданиях

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
193-199.pdf518.76 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.