Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
https://elib.psu.by/handle/123456789/47404| Название: | Плазмохимическое травление оксида кремния при формировании контактных окон с высоким аспектным соотношением |
| Авторы: | Наливайко, О. Ю. Карась, О. В. Дорохович, К. А. Жигулин, Д. В. |
| Дата публикации: | 2025 |
| Издатель: | Полоцкий государственный университет имени Евфросинии Полоцкой |
| Библиографическое описание: | Наливайко, О. Ю. Плазмохимическое травление оксида кремния при формировании контактных окон с высоким аспектным соотношением / О. Ю. Наливайко, О. В. Карась, К. А. Дорохович, Д. В. Жигулин // Актуальные проблемы физики, электроники и энергетики [Электронный ресурс] : электронный сборник статей II Международной научно-практической конференции, Новополоцк, 14 ноября 2024 г. / Полоцкий государственный университет имени Евфросинии Полоцкой. – Новополоцк, 2025. – С. 243-246. |
| Аннотация: | Проведено исследование скорости и селективности плазмохимического травления слоев оксида кремния в смеси CHF3/CF4. Установлено, что при увеличении соотношения потоков CHF3/CF4 с 0,75 до 3,33 селективность травления SiO2/ПКК монотонно возрастает с 9,34 до 25,5. Это позволяет обеспечить одновременное травление контактных окон с различной глубиной с аспектным соотношением до 1,5 и с наклоном боковых стенок 82–87?. |
| URI (Унифицированный идентификатор ресурса): | https://elib.psu.by/handle/123456789/47404 |
| Права доступа: | open access |
| Располагается в коллекциях: | Актуальные проблемы физики, электроники и энергетики. 2024 |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|
| 243-246.pdf | 911.62 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.