Плазмохимическое травление оксида кремния при формировании контактных окон с высоким аспектным соотношением

Abstract

Проведено исследование скорости и селективности плазмохимического травления слоев оксида кремния в смеси CHF3/CF4. Установлено, что при увеличении соотношения потоков CHF3/CF4 с 0,75 до 3,33 селективность травления SiO2/ПКК монотонно возрастает с 9,34 до 25,5. Это позволяет обеспечить одновременное травление контактных окон с различной глубиной с аспектным соотношением до 1,5 и с наклоном боковых стенок 82–87?.