Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.psu.by/handle/123456789/47404| Title: | Плазмохимическое травление оксида кремния при формировании контактных окон с высоким аспектным соотношением |
| Authors: | Наливайко, О. Ю. Карась, О. В. Дорохович, К. А. Жигулин, Д. В. |
| Issue Date: | 2025 |
| Publisher: | Полоцкий государственный университет имени Евфросинии Полоцкой |
| Citation: | Наливайко, О. Ю. Плазмохимическое травление оксида кремния при формировании контактных окон с высоким аспектным соотношением / О. Ю. Наливайко, О. В. Карась, К. А. Дорохович, Д. В. Жигулин // Актуальные проблемы физики, электроники и энергетики [Электронный ресурс] : электронный сборник статей II Международной научно-практической конференции, Новополоцк, 14 ноября 2024 г. / Полоцкий государственный университет имени Евфросинии Полоцкой. – Новополоцк, 2025. – С. 243-246. |
| Abstract: | Проведено исследование скорости и селективности плазмохимического травления слоев оксида кремния в смеси CHF3/CF4. Установлено, что при увеличении соотношения потоков CHF3/CF4 с 0,75 до 3,33 селективность травления SiO2/ПКК монотонно возрастает с 9,34 до 25,5. Это позволяет обеспечить одновременное травление контактных окон с различной глубиной с аспектным соотношением до 1,5 и с наклоном боковых стенок 82–87?. |
| URI: | https://elib.psu.by/handle/123456789/47404 |
| metadata.dc.rights: | open access |
| Appears in Collections: | Актуальные проблемы физики, электроники и энергетики. 2024 |
Files in This Item:
| File | Size | Format | |
|---|---|---|---|
| 243-246.pdf | 911.62 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.