Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://elib.psu.by/handle/123456789/38089
Название: Создание субмикронных структур интегральных микросхем с многоуровневой металлизацией
Авторы: Наливайко, О. Ю.
Цивако, А. А.
Ковальчук, Н. С.
Трусов, В. Л.
Чуйко, В. Н.
Кисель, А. М.
Дата публикации: 2023
Издатель: Полоцкий государственный университет имени Евфросинии Полоцкой
Библиографическое описание: Наливайко, О. Ю. Создание субмикронных структур интегральных микросхем с многоуровневой металлизацией / О. Ю. Наливайко, А. А. Цивако, Н. С. Ковальчук, В. Л. Трусов, В. Н. Чуйко, А. М. Кисель // Актуальные проблемы физики, электроники и энергетики [Электронный ресурс] : электронный сборник статей I Международной научно-практической конференции, Новополоцк, 27–28 окт. 2022 г. / Полоцкий государственный университет имени Евфросинии Полоцкой. – Новополоцк, 2023. – С. 171-177.
Аннотация: Рассмотрены основные технологические процессы, используемые для производства интегральных микросхем с проектными нормами 0,35 мкм. Предложен маршрут формирования межкомпонентной изоляции канавками, заполненными диэлектриком. Описаны особенности процессов осаждения пленок поликристаллического кремния, легированного фосфором в процессе роста, осаждения и химико-механической полировки слоев вольфрама, осаждения межуровневого диэлектрика и формирования многоуровневой металлизированной разводки с «контактными столбиками» из вольфрама.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): https://elib.psu.by/handle/123456789/38089
Располагается в коллекциях:Актуальные проблемы физики, электроники и энергетики. 2023

Файлы этого ресурса:
Файл РазмерФормат 
171-177.pdf1.01 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.