Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.psu.by/handle/123456789/38089
Title: | Создание субмикронных структур интегральных микросхем с многоуровневой металлизацией |
Authors: | Наливайко, О. Ю. Цивако, А. А. Ковальчук, Н. С. Трусов, В. Л. Чуйко, В. Н. Кисель, А. М. |
Issue Date: | 2023 |
Publisher: | Полоцкий государственный университет имени Евфросинии Полоцкой |
Citation: | Наливайко, О. Ю. Создание субмикронных структур интегральных микросхем с многоуровневой металлизацией / О. Ю. Наливайко, А. А. Цивако, Н. С. Ковальчук, В. Л. Трусов, В. Н. Чуйко, А. М. Кисель // Актуальные проблемы физики, электроники и энергетики [Электронный ресурс] : электронный сборник статей I Международной научно-практической конференции, Новополоцк, 27–28 окт. 2022 г. / Полоцкий государственный университет имени Евфросинии Полоцкой. – Новополоцк, 2023. – С. 171-177. |
Abstract: | Рассмотрены основные технологические процессы, используемые для производства интегральных микросхем с проектными нормами 0,35 мкм. Предложен маршрут формирования межкомпонентной изоляции канавками, заполненными диэлектриком. Описаны особенности процессов осаждения пленок поликристаллического кремния, легированного фосфором в процессе роста, осаждения и химико-механической полировки слоев вольфрама, осаждения межуровневого диэлектрика и формирования многоуровневой металлизированной разводки с «контактными столбиками» из вольфрама. |
URI: | https://elib.psu.by/handle/123456789/38089 |
Appears in Collections: | Актуальные проблемы физики, электроники и энергетики. 2023 |
Files in This Item:
File | Size | Format | |
---|---|---|---|
171-177.pdf | 1.01 MB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.