Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://elib.psu.by/handle/123456789/22829
Название: Plasma emission systems for electron- and ion-beam technologies
Авторы: Antonovich, D.
Gruzdev, V.
Zalesski, V.
Pobol, I.
Soldatenko, P.
Другие названия: Системы плазменной эмиссии для электронно-ионно-лучевых технологий
Дата публикации: 2017
Издатель: Begell House Inc
Библиографическое описание: Antonovich, D. Plasma emission systems for electron- and ion-beam technologies/ D. Antonovich, V. Gruzdev, V. Zalesski, I. Pobol, P. Soldatenko // High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes – 2017. - Vol. 21, Iss. 2. – P. 143-159
Аннотация: Designs and basic characteristics of plasma sources of charged particles allowing one to realize a wide spectrum of electron- and ion-beam technologies are presented. Some applications of the developed structures of charged particles sources are considered. Sketches of promising designs of gas-discharge structures capable of forming combined electron and ion beams are proposed.
Ключевые слова: Plasma electron source
Low-energy beams
Combined ion and electron beams
Electron-beams technologies
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): https://elib.psu.by/handle/123456789/22829
DOI: 10.1615/HighTempMatProc.2017024672
Располагается в коллекциях:Электрофизика. Плазменные эмиссионные системы.
Публикации в Scopus и Web of Science

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
Antonovich_Plasma.pdf155.28 kBAdobe PDFЭскиз
Просмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.