Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
https://elib.psu.by/handle/123456789/22829
Название: | Plasma emission systems for electron- and ion-beam technologies |
Авторы: | Antonovich, D. Gruzdev, V. Zalesski, V. Pobol, I. Soldatenko, P. |
Другие названия: | Системы плазменной эмиссии для электронно-ионно-лучевых технологий |
Дата публикации: | 2017 |
Издатель: | Begell House Inc |
Библиографическое описание: | Antonovich, D. Plasma emission systems for electron- and ion-beam technologies/ D. Antonovich, V. Gruzdev, V. Zalesski, I. Pobol, P. Soldatenko // High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes – 2017. - Vol. 21, Iss. 2. – P. 143-159 |
Аннотация: | Designs and basic characteristics of plasma sources of charged particles allowing one to realize a wide spectrum of electron- and ion-beam technologies are presented. Some applications of the developed structures of charged particles sources are considered. Sketches of promising designs of gas-discharge structures capable of forming combined electron and ion beams are proposed. |
Ключевые слова: | Plasma electron source Low-energy beams Combined ion and electron beams Electron-beams technologies |
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): | https://elib.psu.by/handle/123456789/22829 |
DOI: | 10.1615/HighTempMatProc.2017024672 |
Располагается в коллекциях: | Электрофизика. Плазменные эмиссионные системы. Публикации в Scopus и Web of Science |
Файлы этого ресурса:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
Antonovich_Plasma.pdf | 155.28 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.